圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统(蚀刻、等离子混合清洗、等离子清除浮渣、刻胶、去胶 、表面处理 、Etching、故障分析应用 、材料改性 ）
台式反应离子刻蚀系统，台式反应离子刻蚀(RIE)系统，圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。
XF-120超声波处理器
标称频率：20KHZ标称功率：120W整机尺寸：150×150×75mm＋180mm（超声探头长度）配变幅杆：6mm或8mm使用电源：220V/50HZ工作方式：全程数字化设置程序控制，连续工作
台式数控超声波清洗器
产品型号 SD5200H超声功率（W） 200加热功率（W） 300容量（L） 10槽内尺寸（mm)L×W×H 300×240×150外形尺寸（mm)L×W×H 360×270×310超声频率（KHz）40选配 降音盖、排水网架、降音盖、排水价格：5400 5600
浸泡清洗机
W-200 浸泡清洗机采用清洗剂溶液浸泡结合超声波工作方式，柔性、高效地达到清洁效果，广泛应用食品安全、生物医药、石油化工等行业的各种实验器皿、工具器件等清洁。
